Commertio laseris et materiae multa phaenomena physica et naturas implicat. Sequentes tres articuli inducent tria phaenomena clavem physicam ad laser processum glutinum pertinentia ut collegae clariori intellectui provideant.processus laser welding: effusio laseris in ratem et mutationes status, plasma et clavos effectus. Hoc tempore relationem inter mutationes status laser et materiae et effusio rate renovabimus.
Mutationes status materiae per commercium laseris et materiae
Processus laser materiae metallicae maxime fundatur in processu scelerisque photothermalium effectuum. Cum irradiatio laser applicatur ad superficiem materialem, variae mutationes in superficie materiae occurrent in densitatibus diversarum potentiarum. Hae mutationes includunt temperaturae superficiem, ortum, liquefactionem, vaporationem, formationem clavis perforatam et generationem plasmatis. Mutationes autem in statu physicae superficiei materialis valde afficiunt effusio materiae laseris. Crescente potentia densitatis et temporis actionis, materia metallica sequentes mutationes in statu subibit;
Cum autemlaser potentiadensitas humilis est (<10^4w/cm^ 2) et tempus irradiationis breve est, laser energia a metallo absorpta non potest nisi temperatura materiae a superficie ad interiorem oriri, sed solidum tempus immutatum manet. . Maxime adhibita est ex parte furnum et phase transformatio obdurationis curationis, instrumentorum, annorum et gestus maioris partis;
Crescente densitatis laseris potentia (10^4-10^ 6w/cm^ 2) et prolongationem temporis irradiationis, superficies materiae paulatim liquescit. Cum initus energiae augetur, interface liquido-solida sensim ad profundam materiae partem movetur. Hic processus corporis maxime adhibetur ad extenuationem, offensionem, clausuram, et conductivity scelerisque metallorum conglutinatio.
Crescente adhuc potentia densitatis (>10^6w/cm^ 2) et prolongando tempus actionis laseris, superficies materialis non solum dissolvit sed etiam vaporificat, et substantiae vaporizatae circa superficiem materialem conveniunt et debiliter ionizant ad plasma formandum. Tenuis hoc plasma adiuvat laser materiam trahentibus; Liquida superficies sub pressura vaporizationis et expansionis deformat et format foveas. Hic scaena adhiberi potest pro laser glutino, plerumque in splicando conductivity scelerisque connexionis Micro nexus intra 0.5mm.
Crescente adhuc potentia densitatis (> 10 ^ 7w/cm ^ 2) et prolongata temporis irradiatio, superficies materialis validam vaporationem patitur, plasma cum gradu ionizationis alto efformans. Hoc plasma densum effectum protegens in laser habet, valde reducendo energiam densitatem laseris in materiam incidentem. Eodem tempore, sub magno vaporum vi reactionis, parva foramina, vulgo clavium, intra metallum liquefactum formantur, Exsistentia clavium ad materiam trahendi laser utilis est, et haec scaena ad laser profunde fusione adhiberi potest. glutino, incidendo et exercendo, sol- cendo, etc.
Sub diversis conditionibus, diversae fluctus irradiationis laseris in diversis materiis metallicis provenient in valoribus specificis densitatis potentiae in singulis gradibus.
Quantum ad effusionem laseris per materias, vaporization materiae est terminus. Cum materia vaporizationis sive in solido sive liquido tempore non patitur, eius effusio laser tantum tardius mutat cum augmento caliditatis superficiei; Cum materia vaporificat et plasma et clavium format, subito materialis effusio laseris mutabitur.
Ut in Figura II, effusio ratem laser super superficiem materialem in laser glutino variat cum densitate potentia laseris et temperatura superficiei materiali. Cum materia non liquescit, effusio rate materiae laser tardius crescit cum augmento caliditatis superficiei materialis. Cum potentia densitatis maior est quam (10^6w/cm^ 2), materia violenter vaporatur, clavem formans. Laser clavem intrat propter multiplices considerationes et effusio- tiones, quae consequitur notabilem augmentum in rate effusio materialis ad laser et notabile incrementum in profunditate liquescentis.
Effusio Laser per Materias Metallicas - Wavelength
Figura superiore ostendit relationem curvae inter reflexionem, absorbancem et necem vulgo metallorum in cella temperie adhibita. In regione infrared, effusio rate decrescit et reflexio cum augmento necem crescit. Plurima metalla vehementer cogitant 10.6um (CO2) lumen infrarubrum necem dum aegre reflectunt 1.06um (1060um) necem ultrarubrum lumen. Materiae metallicae altius effusio rates habent lasers breves necem, ut caeruleum et viridem lucem.
Effusio Laser per Materias Metallicas - Temperatura materialis et Densitas Laser Energy
Aluminium stannum exempli causa, cum materia solida est, effusio laseris est circa 5-7%, liquor effusio rate usque ad 25-35% est, et super 90% in statu clavicularii pertingere potest.
Effusio rate materiae laseris cum augmento caliditatis crescit. Effusio rate metallorum ad cella temperies valde humilis est. Cum temperatura ad punctum liquescens ascendit, eius effusio rate 40%~60% pervenire potest. Si temperatura appropinquat puncto ferventi, eius effusio rate usque ad 90% pertingere potest.
Effusio Laser per Metal Materias – Superficies Condition
Rate conventionalis effusio utens superficiei metallicae lenis mensuratur, sed in applicationibus calefactionis laseris, plerumque necessarium est augere effusio certarum materiarum altarum reflexionum (aluminium, aeris) ad vitandam falsam solidatricem per altam reflexionem causatam;
Sequuntur modi adhiberi possunt:
1. Adoptatione opportuna superficiei praetractationis processuum ad emendandum reflexionem laseris: prototypum oxidationis, sandblastionis, purgationis laser, nickel plating, stannum platingae, graphite vestis, etc. possunt omnes emendare effusio materiae laseris;
nucleus augere est asperitatem superficiei materialis (quae multis cogitationibus et effusio laseris confert), necnon augere materiam coatingens cum magna effusione. Per industriam laseris absorbendo et liquefaciendo et volatiliendo per altas absorptiones materiae rate, calor laser ad materiam basim transmittitur ad ratem materialem absorptionem emendandam et virtualem glutino phaenomeni per altam reflexionem causatam reducendo.
Post tempus: Nov-23-2023
